Vakuové napařování: Principem je zahřátí filmového materiálu výparníkem za podmínek vakua, aby došlo k jeho odpaření nebo sublimaci, a poté je proud odpařených částic přímo vystřelen směrem k substrátu, kde se ukládá a vytváří pevný film. Odpařování se také dělí na odpařování elektronovým paprskem, odporové odpařování, indukční odpařování atd.
Iontové pokovování: Iontové pokovování obecně označuje způsob potahování, který generuje velké množství iontů během procesu potahování. Během procesu tvorby filmu je substrát neustále bombardován vysoce-energetickými částicemi, což vede k velmi silné vrstvě filmu s vynikající pevností a přilnavostí. Když se k vytvoření vysoce přesných filmů používá iontové pokovování, lze velké iontové částice odfiltrovat, což vede k vysoce strukturovanému a hustému filmu.
Nejběžnější technologie potahování vakuových potahovacích zařízení v každodenním životě jsou tyto tři. Konkrétní výběr závisí na tom, jakou vrstvu filmu má být potažen a jaký obrobek má být potažen.
